- 【供应】SKII-C型二次曝光晒版机
2025-02-10
- 产地：
- 暂无
- 所在地：
- 暂无
产品详情
特点：
·微机控制，键盘操作，具有数据存储功能，自动晒版。
·晒版光源采用快门装置，主辅曝光，定时控制，晒版迅速。
·具备二次抽气程序，双回路抽气系统，网点结实清晰。
·外形采用全封闭结构，静电喷塑，色彩柔和挺刮。
规格：
型号 SKII-1150C SKII-1300C
晒版面积 1150×950mm 1300×1100mm
光源功率 3Kw/半功率1Kw 3Kw/半功率 1Kw
电源电压 380V/4Kw 380V/4Kw
光均匀度 ] 85% ] 85%
净重 350kg 450kg
外形尺寸 1450×1250×2400mm 1600×1350×2600mm
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